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Fitting and Pattern Alteration: A Multi-Method Approach to the Art of Style Selection, Fitting, and Alteration
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Sie nicht Ihre Meinung ändern, wenn Sie zu planen beginnen Analyseroutine zu haben. Diese Praxis ist eine ausgezeichnete sowie wunderbare Verhalten. Sie müssen es mit den besten Büchern beleben. Viele Bücher zeigen und präsentieren dort unglaubliche Inhalte auf der Grundlage jedes Designs und Themen. Auch jede Publikation hat verschiedene Vorlieben zu schaffen; sie werden sicherlich besser Problem geben, wenn sehr gut. Das ist genau das, was uns mit Stolz existent Fitting And Pattern Alteration: A Multi-Method Approach To The Art Of Style Selection, Fitting, And Alteration als einer der Führer zur Zeit zu überprüfen.
Jegliche Veröffentlichungen, die Sie heraus überprüfen, egal, wie genau man die Sätze bekam, die von Führungen gelesen wurden, sicherlich werden sie sicherlich geben Sie Güte. Aber wir werden Sie sicherlich eine Empfehlung offenbaren des Buches, die Sie lesen müssen. Diese Fitting And Pattern Alteration: A Multi-Method Approach To The Art Of Style Selection, Fitting, And Alteration ist genau das, was wir auf jeden Fall bedeuten. Wir werden Ihnen die praktischen Gründen zeigen Sie diese Publikation lesen sollte. Dieses Buch ist eine Art wertvollen Buchs von einem erfahrenen Schriftsteller erstellt.
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Pressestimmen
No other book addresses the topic as clearly and as concise as this one . . . I would consider it a 'Bible' on the subject. It is packed with information, challenges and solutions. -- Luz Pascal, FIT, US The books strength is that is offers a more objective way of assessing fit by giving guidance on what good fit should be something which is not explicit within the clothing industry. It also acknowledges that ideas of good fit can change given a particular season. The book enables students to approach fit is a logical and systematic way and provides solutions which they understand easily and have the skill set to undertake. -- Paula Wren, Manchester Metropolitan University, UK This is a comprehensive compendium of fitting and pattern alteration information. This text is appropriate for the intermediate student and as a resource, is very accessible and intuitive to use. -- Susan O'Neill, Seton Hall University, US
Über den Autor und weitere Mitwirkende
Elizabeth Liechty is Professor Emerita at Brigham Young University, USA. Judith Rasband is the founder and CEO of Conselle L.C. and director of the Conselle Institute of Image Management, USA.Della N. Pottberg-Steineckert is Professor Emerita at Brigham Young University, USA.
Produktinformation
Taschenbuch: 484 Seiten
Verlag: Bloomsbury Academic USA; Auflage: 3 (7. April 2016)
Sprache: Englisch
ISBN-10: 1501318209
ISBN-13: 978-1501318207
Größe und/oder Gewicht:
22,6 x 3 x 30,7 cm
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